光刻胶和芯片哪个涨停-CPU和显卡的上十亿个晶体管是一个一个拼接上去的吗?

一、超大规模集成电路 ic 电阻 电容 电感

VLSI是无法像PCB一样使用宏观元件实现电路的（因为VLSI所有元件是集成在一般硅上的，即全部在硅上进行氧化，光刻，掺杂，最后形成完整电路），而电路功能的实现决定了必须使用电阻、电容和电感（电感我还真不知道怎么在VLSI上实现：） ；
这样的话，就必须用VLSI物理版图的不同layer来构成电阻和电容。
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电阻好说，一般就是用很长的多晶硅条来实现（随便给你传个画着玩的VLSI物理版图的一部分，其中红色的就是作为电阻的多晶硅条） ；
有时也用恒导通的宽长比（W/L）较小的MOS来实现。
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至于电容，你要了解MOS的栅极和衬底之间本身就是氧化层，也就是不论有源区还是场区都是有寄生电容存在的，我们就是利用它们来做电容；
比较简单的方法就是一个MOS管的源、漏相连为a端，栅极为b端，a、b间就是一个电容，其大小很显然是K（氧化层介电常数）*（L*W）。
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对于补充问题： ；
看来你现在不明白的是VLSI工艺的实现方法。
下面简单叙述。
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VLSI采用的是平板工艺，它的制作大致分为氧化、光刻、掺杂、淀积4步。
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最最开始的时候，我们先找到一批非常纯净的单晶硅块，按照集成电路趁底的掺杂要求放入一定比例的III/V族元素（非常少），然后熔融，在用拉伸生长法拉出一条圆柱体状的低掺杂硅柱，经过切割、抛光就得到了一片片的晶圆。
至此，初步准备工作就做好了（衬底就做好了）。
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下面开始以这个晶圆为“基底”，开始往上“盖楼房”。
首先是氧化，即在晶圆表面均匀形成一层氧化层；
然后做一层多晶硅的栅极，当然是按照版图中 ；
的形状来做。
之后开始光刻，光刻前要涂光刻胶，按照版图形状对光刻胶曝光，这样就可以按照版图留下有源区的区域，在此区域腐蚀掉氧化层。
这样，晶体管有源区的衬底就暴露在空气下（别处还都有氧化层保护）；
下面掺杂，按照晶体管设计要求向暴露的有源区用离子注入的方法掺杂，形成MOS的源漏；
之后在有源区进行淀积，淀积上铝用于连接外电路。
这样简单的一个MOS就做成了。
下面为明白起见，从下到上说一下layer：衬底（sub）、阱/有源区掺杂、氧化层、多晶硅、淀积上的铝/金属。
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当然，还有更为复杂的VLSI采用更多layer。
*************************************1.是一层层往上做的，就是最底下是衬底，然后那些层都在衬底之上；
当然部分层之间都是由氧化层隔开的，就是电学隔离（比如多晶硅层和衬底）；
我给你换一个剖面图就清楚了。
2.这个还真不清楚>；
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，只知道利用淀积工艺可以做金属层，但是多晶硅不知道。
。
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3.从图里你可以看到，他们是连一起的，注意，图中的PMOS为了和nmos做在一起，但是需要的衬底和n型是反着的，所以做了一个N-Well作为他的衬底。
在制造工艺中，我们把衬底掺杂控制的较低，越低导电性就愈差，所以不是高电导；
到了有源区（即源、漏）就变为高掺杂，为导电和形成反型沟道做铺垫。
虽然衬底不是高电导，但是恰恰是这样，刚好和有源区的半导体形成2级管，正是这个2级管的存在，决定了CMOS电路必须是nmos接GND，pmos接VDD（极性你自己判断一下吧）。

二、中兴通信什么原因涨停

由于没有自己的核心芯片，而受制于人，故其发展惨遭伤害。

三、CPU和显卡的上十亿个晶体管是一个一个拼接上去的吗?

用激光在晶圆上蚀刻出来的！

拼得话，不现实！

四、你认为芯片股还会上涨吗？

芯片股还有上涨，芯片可以说是科技的基础，虽然一块小小的芯片，但在科技的地位上非常重要。
这也是美国科技发达的原因之一。
随着中国的发展，美国的狭隘对中国科技进行遏制，像上周末有把32家中国的科技公司列入了实体清单。
这也显得芯片类科技产业国产替代尤为重要的同时也极其迫切。
在发展新基建的基础上，芯片、半导体、集成电路等基础电子元器件一个都不能少。
也因此，国产类芯片还有上涨的基础，虽被打压，但是有预期，中国科学家一定会造出真正属于自己的芯片。
这是基本面支撑芯片股上涨的基础，未来芯片发展是有战略意义的。
而从股票技术上来看，科技股也是有预期的，特别是这两个月科技股的走势对市场影响非常明显。
只要科技股上涨，指数就会上涨，而且整个市场盘面也表现更好。
科技股与大盘运行相关，这是近期被资金避险报团的白酒、食品等消费股没有的特征。
这是科技股在盘面中的独特性！科技股在从高点下来，在整个4月过程中经历过3次洗盘建仓，三重底底部明显，这一点我在4月初的时候就开始观察科技股的动向。
那时观察科技股也是因为发现科技股与大盘的联动性，才一直跟踪。
目前以集成电路板块为例，目前板块指数是回踩20日线以及前期三重底的颈部位置，科技股会反弹。
我们可以再去看看半导体、芯片等板块，它们的板块走势几乎和集成电路的走势是一致的。
资金用了一个月的时间进行建仓，上涨周期不可能只有一两个礼拜，至少也是月级别的行情。
结合基本面的预期以及技术上的支撑，芯片股还有上涨的机会。
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五、600584长电科技今天怎么涨这么猛？我之前9.80进的，请问我该如何操作？

由于没有自己的核心芯片，而受制于人，故其发展惨遭伤害。

六、可以替代光刻机技术的原子光刻技术什么时候可以量产？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

七、谁知道树脂工艺品用的模具是怎么做出来的？

一种聚二甲基硅氧烷微流控芯片复型光固化树脂模具制作方法，采用环氧类光敏树脂配制的液态光刻胶为微模具材料，以石英玻璃为背衬基片，通过基片上的硅烷偶联剂涂层增加模具结构与基片的结合力，用在基片周围粘贴不同厚度的塑料薄片的方法控制光刻胶厚度，以高分辨率激光照排机输出的感光软片为光刻掩模，以普通紫外灯或紫外线激光器为曝光光源，以F46薄膜为曝光时的保护膜，以无水乙醇为显影液，通过振荡获得干净清晰的显影轮廓，通过显影后的二次光固化提高结构强度及结构与基片的结合力。
该模具可用于复制PDMS材料的微流控芯片、生物芯片、压印光刻工艺中使用的软模具，还可用于其它微机械电子系统(MEMS)的加工领域。
 　

八、光刻作用？

展开全部简单的讲，就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的wafer曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到wafer上。
这就是光刻的作用，类似照相机照相。

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